国产 “羲之” 电子束光刻机突破，助力半导体产业自主发展

在全球半导体产业中，ASML 的极紫外光刻机备受瞩目。而在中国，科研人员在另一关键赛道取得重大进展。浙江大学余杭量子研究院自主研发的国产商业电子束光刻机 “羲之”，近日成功通过应用测试，其 0.6 纳米的精度指标意义非凡，标志着中国在纳米级精密加工装备领域实现历史性突破。 0.6 纳米的精度，是一个超乎想象的微观尺度。它相当于把一根人类头发丝纵向切割成 8 万份，甚至能在单根头发丝的横截面上完整刻画出北京五环的全景航拍图，每条高速公路的走向都清晰可辨。而且，“羲之” 并非停留在实验室阶段的概念产品，而是一款已迈入商业化阶段的成熟设备。 随着摩尔定律逐渐接近物理极限，传统硅基芯片的发展空间愈发狭窄。量子计算作为下一代信息技术的新方向，对加工精度提出了原子级别的要求。其核心结构如超导电路、量子点等，尺寸通常在几十纳米以下，这对制造装备的要求极高。电子束光刻机则是开启量子计算未来大门的关键。然而长期以来，这类高端电子束光刻设备一直被美国、日本公司垄断，还被列入禁运清单，导致中国等顶尖科研机构获取困难。 “羲之” 电子束光刻机的诞生，彻底扭转了这一被动局面。据研发团队透露，该设备已完成从实验室样机到商品机的全流程转化，具备量产能力，可直接接受订单、开具发票并投入芯片制造产线。这一转变，不仅代表中国高端半导体装备在研发、交付、服务和推广等方面实现质的飞跃，更凸显了中国在半导体装备领域的自主创新能力。 “羲之” 的成功并非偶然，而是中国半导体装备产业链整体崛起的一个典型例证。在全球化遭遇逆流、技术封锁不断加剧的背景下，中国科学家和工程师通过深度融合科技创新与产业创新，持续突破关键核心技术难题。浙江大学与余杭量子研究院长达数年的技术积累，以及浙江省重点实验室的持续投入，为 “羲之” 的成功奠定了坚实基础。正是多年来的不懈努力和持续投入，让中国不仅跟上了国际发展步伐，还在某些细分领域实现超越。 在全球半导体产业面临技术路线分化的重要时刻，“羲之” 电子束光刻机的问世，为中国参与下一代技术标准制定提供了重要支撑。同时，它也将有力推动中国构建自主可控的全链条半导体装备体系，为半导体产业的未来发展注入强大动力。